在激光慣性約束核聚變實驗中,，靶丸的物性參數(shù)和幾何參數(shù)是靶丸制備工藝改進(jìn)和仿真模擬核聚變實驗過程的基礎(chǔ),，因此如何對靶丸多個參數(shù)進(jìn)行同步,、高精度,、無損的綜合檢測是激光慣性約束核聚變實驗中的關(guān)鍵問題,。以上各種薄膜厚度及折射率的測量方法各有利弊,，但針對本文實驗,，仍然無法滿足激光核聚變技術(shù)對靶丸參數(shù)測量的高要求,，靶丸參數(shù)測量存在以下問題：不能對靶丸進(jìn)行破壞性切割測量,，否則，被破壞后的靶丸無法用于于下一步工藝處理或者打靶實驗,；需要同時測得靶丸的多個參數(shù),，不同參數(shù)的單獨測量，無法提供靶丸制備和核聚變反應(yīng)過程中發(fā)生的結(jié)構(gòu)變化現(xiàn)象和規(guī)律,，并且效率低下,、沒有統(tǒng)一的測量標(biāo)準(zhǔn)。靶丸屬于自支撐球形薄膜結(jié)構(gòu),，曲面應(yīng)力大,、難展平的特點導(dǎo)致靶丸與基底不能完全貼合，在微區(qū)內(nèi)可看作類薄膜結(jié)構(gòu)白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實現(xiàn)對薄膜的表面和內(nèi)部結(jié)構(gòu)的聯(lián)合測量和分析,。潛江膜厚儀哪個品牌好

針對微米級工業(yè)薄膜厚度測量,，研究了基于寬光譜干涉的反射式法測量方法。根據(jù)薄膜干涉及光譜共聚焦原理,，綜合考慮成本,、穩(wěn)定性、體積等因素要求，研制了滿足工業(yè)應(yīng)用的小型薄膜厚度測量系統(tǒng),。根據(jù)波長分辨下的薄膜反射干涉光譜模型,，結(jié)合經(jīng)典模態(tài)分解和非均勻傅里葉變換思想，提出了一種基于相位功率譜分析的膜厚解算算法,，能有效利用全光譜數(shù)據(jù)準(zhǔn)確提取相位變化,，對由環(huán)境噪聲帶來的假頻干擾，具有很好的抗干擾性,。通過對PVC標(biāo)準(zhǔn)厚度片,，PCB板芯片膜層及鍺基SiO2膜層的測量實驗對系統(tǒng)性能進(jìn)行了驗證，結(jié)果表明測厚系統(tǒng)具有1~75μm厚度的測量量程,，μm.的測量不確定度,。由于無需對焦，可在10ms內(nèi)完成單次測量,，滿足工業(yè)級測量高效便捷的應(yīng)用要求,。浦東新區(qū)膜厚儀常用解決方案白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉曲線的分析實現(xiàn)對薄膜的厚度和形貌的聯(lián)合測量和分析。

常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理示意圖,，入射的白光光束通過半反半透鏡進(jìn)入到顯微干涉物鏡后,，被分光鏡分成兩部分，一個部分入射到固定的參考鏡,，一部分入射到樣品表面,，當(dāng)參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后，再次匯聚發(fā)生干涉,，干涉光通過透鏡后,，利用電荷耦合器(CCD)可探測整個視場內(nèi)雙白光光束的干涉圖像。利用Z向精密位移臺帶動干涉鏡頭或樣品臺Z向掃描,，可獲得一系列的干涉圖像,。根據(jù)干涉圖像序列中對應(yīng)點的光強(qiáng)隨光程差變化曲線，可得該點的Z向相對位移,；然后,，由CCD圖像中每個像素點光強(qiáng)最大值對應(yīng)的Z向位置獲得被測樣品表面的三維形貌。

白光干涉的分析方法利用白光干涉感知空間位置的變化,，從而得到被測物體的信息,。它是在單色光相移干涉術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的。單色光相移干涉術(shù)利用光路使參考光和被測表面的反射光發(fā)生干涉,，再使用相移的方法調(diào)制相位,，利用干涉場中光強(qiáng)的變化計算出其每個數(shù)據(jù)點的初始相位，但是這樣得到的相位是位于（-π,，+π]間，所以得到的是不連續(xù)的相位,。因此,，需要進(jìn)行相位展開使其變?yōu)檫B續(xù)相位,。再利用高度與相位的信息求出被測物體的表面形貌。單色光相移法具有測量速度快,、測量分辨力高,、對背景光強(qiáng)不敏感等優(yōu)點。但是,，由于單色光干涉無法確定干涉條紋的零級位置,。因此，在相位解包裹中無法得到相位差的周期數(shù),，所以只能假定相位差不超過一個周期,，相當(dāng)于測試表面的相鄰高度不能超過四分之一波長[27]。這就限制了其測量的范圍,，使它只能測試連續(xù)結(jié)構(gòu)或者光滑表面結(jié)構(gòu),。白光干涉膜厚測量技術(shù)的發(fā)展將促進(jìn)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步。

論文主要以半導(dǎo)體鍺和貴金屬金兩種材料為對象,，研究了白光干涉法,、表面等離子體共振法和外差干涉法實現(xiàn)納米級薄膜厚度準(zhǔn)確測量的可行性。由于不同材料薄膜的特性不同,，所適用的測量方法也不同,。半導(dǎo)體鍺膜具有折射率高，在通信波段（1550nm附近）不透明的特點,，選擇采用白光干涉的測量方法,；而厚度更薄的金膜的折射率為復(fù)數(shù)，且能激發(fā)的表面等離子體效應(yīng),，因而可借助基于表面等離子體共振的測量方法,；為了進(jìn)一步改善測量的精度，論文還研究了外差干涉測量法,，通過引入高精度的相位解調(diào)手段,，檢測P光與S光之間的相位差提升厚度測量的精度。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對薄膜的三維成像和分析,。無錫國內(nèi)膜厚儀

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對不同材料的薄膜進(jìn)行聯(lián)合測量和分析,。潛江膜厚儀哪個品牌好

極值法求解過程計算簡單，速度快,，同時確定薄膜的多個光學(xué)常數(shù)及解決多值性問題,，測試范圍廣，但沒有考慮薄膜均勻性和基底色散的因素,，以至于精度不夠高,。此外，由于受曲線擬合精度的限制，該方法對膜厚的測量范圍有要求,，通常用這種方法測量的薄膜厚度應(yīng)大于200nm且小于10μm,，以確保光譜信號中的干涉波峰數(shù)恰當(dāng)。全光譜擬合法是基于客觀條件或基本常識來設(shè)置每個擬合參數(shù)上限,、下限,，并為該區(qū)域的薄膜生成一組或多組光學(xué)參數(shù)及厚度的初始值，引入適合的色散模型,，再根據(jù)麥克斯韋方程組的推導(dǎo),。這樣求得的值自然和實際的透過率和反射率（通過光學(xué)系統(tǒng)直接測量的薄膜透射率或反射率）有所不同，建立評價函數(shù),，當(dāng)計算的透過率/反射率與實際值之間的偏差小時,，我們就可以認(rèn)為預(yù)設(shè)的初始值就是要測量的薄膜參數(shù)。潛江膜厚儀哪個品牌好

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